谭云松几乎要哭出来:“杨👛🉥🉞少你怎么不早说?我还以为那个🝺🐉设计很完美呢?韩小龙前两天还在到处吹牛,说顶多流个七八次片就能试验成功。”

    “他们的研发思路是没有🛇错,只要稍微修改一下设计,这样可以把制备流程缩短🃙30%,生产成本会大幅下降,以后良品率也会很容易上去。”

    “杨少你真是🛽天才,一眼就看出了这里👈🆸面的问题,连如何修改都想好了,有你这样的天才,我想国外那些闪存大厂要掉眼泪了。”

    杨杰哈哈笑一笑,老天爷好不容易让自己重生一回,自己手头上有🄥⛓大量🋏的技术专利,不拿出利用那简直太🉋🅳暴殄天物了!

    “我都怀疑杨少你🛕🜐上辈子是不是搞IC的?这辈子是带着记忆投🋕胎?为什么有着如此多的想法?”

    “谭总你可是还🇒科学家呢!怎么还相信这🙋一套!”

    谭云松笑了起来:“没🍂办法,国内在半导体产业上有着如此快速的提升,这就是一个奇迹呀!根本没办法用科学来解释。”

    “这📔🚥🕡不是谭总最希望看到的结💀果么🌝。”杨杰笑着道。

    次日,杨杰也是出现在了新蓝科技公司的研发中心,会议室里面坐满了公司研发部门🎪📸🟧的技术工程师,中间还有二十多名的MI国的工程师。

    他指着投影屏幕上自制的PPT说道:“🙋大家看啊,这个多晶硅栅下面是三层绝缘薄膜,这三层薄膜分别是隧穿氧化层、氮化硅、屏障氧化层,其中氮化硅具有极高的电子陷阱密度,可以捕获电子,达到⚃🎲存储电荷的目的,带电就是1,不带电就是0。”

    杨杰继续说道:“氮化硅之前只是用在对底层金属实现覆盖,因为针孔很少,🗵对水汽和钠🙌🈾🃺在氮化硅材料中扩散非常慢,这次我们将氮化硅注入沟道边沿。”

    他看到众人都是🇒露出了困惑的表🚼😬情,笑着解释道:“我们都知道半导体中有两种载流子,一种是电子,一种是空穴,在对单元进行写入操作时,采用热电子注入法,将热电子注入沟道边缘的氮化硅,这样就完成了写入过程,在作擦除时,利用价带间的空穴,将空穴注入沟道边缘的氮化硅,消除电荷,就完成了擦除。

    “由于氮化硅的绝缘性,热电子效应产生的电子只能被注入并限制在沟道边缘。正是这样,两侧沟道一旦全部带电就是11,全部不带电就是00,但是我们一旦把两侧沟道其中一侧进🂛🏡🛪行单独擦除,就会出现四种情况,一种是01,一种是10,于是我们就在不进行复杂工艺改变的前提下,让现有的闪🍳存容量增加了一倍。🛢🞈💎”

    “在这个基🚷😅⚤础上,我们可以今后发展出多电压控制栅极多层注入电荷技术产品,实现多层的堆叠,可以用这种技术在现有的制程工艺上最大限度地增加闪存的容量,而不是完全依靠制🗤🝥🍎程工艺的提升,这也大大地降低了闪存的成本。”

    听到这里,会议室里一片哗然,众人都是无比惊喜,韩小龙此时激动地鼓掌,随后大家🗌🚌💀都是跟⛡着用力地鼓起掌来。

    “杨少你太神了!我们得赶紧实验!🆝🐠🁍赶紧写论文申请专利!”韩小龙激动地说道。

    “杨先生,🚷😅⚤你的设想太完美了!我觉得可行!真的可行!这个路子🄥⛓怎么以前就没人🍿🍶想到呢!你真是天才!”

    此时好几个MI国工程🍂师都是激动地站起来🄰🁉嚷嚷。🋿